Maszyna do wyrównywania masek litograficznych Maszyna fototrawiąca
Wprowadzenie produktów
Źródło światła ekspozycyjnego wykorzystuje importowaną diodę UV LED i moduł kształtujący źródło światła, z małym ciepłem i dobrą stabilnością źródła światła.
Odwrócona struktura oświetlenia ma dobry efekt rozpraszania ciepła i efekt zamknięcia źródła światła, a wymiana i konserwacja lampy rtęciowej są proste i wygodne.Wyposażony w lornetkowy mikroskop z podwójnym polem o dużym powiększeniu i 21-calowy panoramiczny ekran LCD, można go wizualnie ustawić
okular lub wyświetlacz CCD +, charakteryzujący się dużą dokładnością ustawienia, intuicyjnym procesem i wygodną obsługą.
Cechy
Z funkcją przetwarzania fragmentów
Poziomujący nacisk styku zapewnia powtarzalność przez czujnik
Odstęp wyrównania i odstęp ekspozycji można ustawić cyfrowo
Korzystanie z wbudowanego komputera + obsługa ekranu dotykowego, proste i wygodne, piękne i hojne
Płyta typu pull w górę i w dół, prosta i wygodna
Wspieraj ekspozycję na kontakt próżniowy, kontakt z twardym kontaktem, kontakt z ciśnieniem i ekspozycję na bliskość
Z funkcją interfejsu nano nadruku
Ekspozycja jednowarstwowa z jednym kluczem, wysoki stopień automatyzacji
Ta maszyna ma dobrą niezawodność i wygodną demonstrację, szczególnie nadaje się do nauczania, badań naukowych i fabryk w szkołach wyższych i uniwersytetach
Więcej szczegółów
Specyfikacja
1. Obszar ekspozycji: 110 mm × 110 mm;
2. ★ Długość fali ekspozycji: 365 nm;
3. Rozdzielczość: ≤ 1m;
4. Dokładność wyrównania: 0,8 m;
5.Zakres ruchu stołu skanującego systemu wyrównywania powinien wynosić co najmniej: Y: 10 mm;
6. Lewa i prawa rura świetlna układu wyrównującego mogą poruszać się oddzielnie w kierunkach X, y i Z, w kierunku X: ± 5 mm, w kierunku Y: ± 5 mm i w kierunku Z: ± 5 mm;
7. Rozmiar maski: 2,5 cala, 3 cale, 4 cale, 5 cali;
8. Wielkość próbki: fragment, 2”, 3”, 4”;
9. ★ Nadaje się do próbek o grubości: 0,5-6 mm i może pomieścić próbki o średnicy maksymalnie 20 mm (dostosowane);
10. Tryb ekspozycji: czas (tryb odliczania);
11. Nierównomierność oświetlenia: ＜ 2,5%;
12. Mikroskop wyrównawczy CCD z podwójnym polem: soczewka powiększająca (1-5 razy) + soczewka obiektywu mikroskopu;
13. Skok ruchu maski względem próbki powinien wynosić co najmniej: X: 5 mm;Y: 5mm;: 6°;
14. ★ Gęstość energii ekspozycji: > 30MW/cm2,
15. ★ Pozycja wyrównania i pozycja ekspozycji działają w dwóch stacjach, a serwosilnik w dwóch stacjach przełącza się automatycznie;
16. Poziomujący docisk zapewnia powtarzalność przez czujnik;
17. ★ Odstęp wyrównania i odstęp ekspozycji można ustawić cyfrowo;
18. ★ Posiada interfejs nano nadruku i interfejs zbliżeniowy;
19. ★ Obsługa ekranu dotykowego;
20. Wymiary całkowite: około 1400 mm (długość), 900 mm (szerokość) 1500 mm (wysokość).
